Оптические маски, решетки, шкалы, сетки, растры и т.п. представляют собой плоскопараллельные стеклянные пластинки с нанесенными на них металлизированными рисунками (обычно в виде тонкой пленки хрома). По своему назначению их можно разделить на следующие группы:
Визирные и специальные сетки (калибры, марки, растры и т.д.).Лимбы для углоизмерительных устройств.Измерительные решетки, линейные и круговые шкалы.Фотошаблоны линз Френеля, дифракционные решетки, микролинзовые растры, гомогенизаторы и т.п.
Оригиналы высокоточных изделий изготавливаются методом прямой лазерной записи на прецизионном оборудовании с интерференционным контролем. В качестве подложек используются оптические пластины с клином < 1-2" и плоскостностью 0.1?.
Копии изделий изготавливаются методом контактной фотолитографии с использованием стандартных хромированных фотошаблонов 102?102мм или 127?127мм.
Прецизионные фотошаблоны для испытаний и аттестации погрешности оптико-механического и контрольно-измерительного оборудования (отсчётные сетки, визирные шкалы, тест-объекты) Материал подложки Оптическое стекло, кварц, ситалл Размер подложки до 153х153 мм (? 210 мм) Топология Произвольная, описанная в pcx, png, bmp или dwg форматах Погрешность расположения элементов топологии на поле (СКО) В поле ? 150 мм - 0.3 мкм
В поле ? 100 мм - 0,2мкм
Кольцевые структуры в поле ? 200 мм - 0,05мкм Минимальный элемент на поле 1 мкм Покрытие Хром Решетки и миры линейные, радиальные, кольцевые Материал подложки Оптическое стекло, кварц, ситалл Изображение Светлое или тёмное поле Размер подложки до 150х150 мм (? 210 мм) Топология Произвольная, описанная в pcx, png, bmp или dwg форматах Погрешность расположения элементов топологии на поле (СКО) В поле ? 150 мм - 0.3 мкм
В поле ? 100 мм - 0,2мкм Кольцевые структуры в поле ? 200 мм - 0,05мкм Минимальный элемент на поле 1 мкм Покрытие Хром Лимбы, кодовые диски, угловые шкалы Материал подложки Оптическое стекло, плавленый кварц, ситалл Изображение Светлое или тёмное поле Размер подложки до ? 230 мм, толщина до 24 мм Топология Произвольная, описанная в txt, png, pcx, bmp или dwg форматах Погрешность расположения элементов топологии на поле (СКО) Радиальная 0,05 мкм Угловая 1 угл. сек Минимальный элемент на поле 1 мкм Количество радиальных штрихов <0.5?06 на радиусе 100 мм Неровность края (СКО) < 0.1 мкм Материал покрытия Хром или рельеф
