Система безмасковой лазерной литографии mPG 101 Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH
mPG 101 - настольная лабораторная система безмасковой лазерной литография Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) для производства фотошаблонов и прямого формирования изображения
Лазерный генератор изображения Heidelberg mPG 101 является компактным бюджетным решением для лабораторий и мелкосерийных производств. Несмотря на свою компактность, установка справляется со всеми теми же задачами, что выполняют более крупные модели генераторов. Установка может использоваться для производства фотошаблонов, а также для получения топологических структур на прочих пластинах с фоторезистом при производстве интегральных схем, гибридных интегральных схем, а также для формирования структур на пластине, при производстве МЭМС, БиоМЭМС, интегрированной оптики и др.
Для обеспечения высокоточного перемещения лазерного луча генератор оборудован специальной оптической системой и системой позиционирования подложки.
Для обеспечения наилучшей разрешающей способности генератор оборудован системой автофокусировки с подстройкой пьезомодулем и системой модуляции луча с помощью акустооптического модулятора.
Для перемещения подложки в горизонтальной плоскости есть специальная система позиционирования.
В базовой комплектации система оснащена диодным лазером, работающим на длине волны 405 нм, 120 мВт. В зависимости от технических требований заказчика установка может быть оснащена УФ диодным лазерным источником (375 нм, 70 мВт).
Установку можно оснастить сменными пишущими линзами с минимальным размером элемента 5 микрон, 2,5 микрона и 0,9 микрон. (по выбору).Пишущие головки сменные и могут меняться оператором при смене процесса.
Технические характеристики:
Сменные пишущие линзы (головы) на 0,9 мкм, 2,5 мкм и 5,0 мкм.
Размер обрабатываемых подложек и пластин до 6 х 6 дюймов;
Размер поля экспонирования до 125 х 125 мм;
Толщина подложки до 6 мм;
Погрешность позиционирования подложки: 20 нм;
Точная фокусировка луча до 100 нм;
Габаритные размеры: 610 х 740 х 500 мм, вес 100 кг;
Размеры блока питания: 430 х 380 х 230 мм, вес 10 кг;
Стабильность поддержания температуры ±1° С;
Требуемый уровень влажности: 50% ± 10%;
Энергопотребление: 230 VAC ± 5 %, 50/60 Hz, 6 A.
Класс чистоты комнаты: ISO 6 (1000) или лучше.
Режимы формирования рисункаmPG 101 Режим работы I II III Размер адресной сетки, нм 40 100 200 Минимальный размер элемента, мкм 0,9 2,5 5,0 Скорость рисования, мм2/мин. 5,0 35 90 Неровность края (3?), нм 120 200 400 Равномерность (3?), нм 200 400 800 Точность совмещения (3?), нм 200 400 800 Область письма (экспонирования), мм 90 х 90 125 х 125 125 х 125 Источники излучения:
Диодный лазер — 405 нм, 120 мВт, 8000 часов, воздушное охлаждение (для тонких и стандартных резистов);
УФ-диодный лазер (по заказу) — 375 нм, 70 мВт, 7000 часов, воздушное охлаждение (для УФ-резистов).
Базовая комплектация:
Основной блок;
Рама с подавлением внешних вибраций;
Оптическая система;
Калибровочная система автофокусировки;
Система позиционирования подложки;
Электронный блок управления;
Персональный компьютер пользователя;
Комплектация по заказу:
Замена лазерного источника для работы в УФ-диапазоне;
Автоматическая система совмещения
Режим векторного экспонирования;
Базовый режим экспонирования в серой шкале
Антивибрационный стол
