Фоторезисты
|
Поделитесь страницей в Социальных сетях
|
|
Фоторезист — полимерный светочувствительный материал. Наносится на обрабатываемый материал в процессе фотолитографии или фотогравировки с целью получить соответствующее фотошаблону расположение окон для доступа травящих или иных веществ к поверхности обрабатываемого материала.
Вас также могут заинтересовать
Лабораторные центрифуги для нанесения фоторезиста: Настольные центрифуги фирмы MIDAS System специально разработаны для лабораторий. Спроектированы для нанесения различных жидких материалов на планарны
Модифицированный пленочный фоторезист водно-щелочного проявления МФП-ВЩ применяется в производстве радиоэлектронной аппаратуры на этапах получения электропроводящих слоев требуемой конфигурации односл
Характеристики и области применения продукта • Сухой пленочный негативный фоторезист. Обрабатывается водными растворами. • Материал специально разработан для нанесения рисунка схемы на химически
Установка First EIE EDI500 Direct Imager предназначена для прямого экспонирования фоторезиста и защитной паяльной маски, нанесенных на заготовку печатной платы. В устройстве используется оптика высоко
Фоторезист жидкий для шелкографии является несеребряным негативным фотоматериалом, предназначенным для изготовления сеткотрафаретных экранов (трафаретных печатных форм). Фоторезист жидкий ФРЖ может пр
Внимание!
Информация по Фоторезисты предоставлена компанией-поставщиком Арсенал, ООО. Для того, чтобы получить дополнительную информацию, узнать актуальную цену или условия постаки, нажмите ссылку «Отправить сообщение».
|
